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深圳等離子體增強氣相沉積真空鍍膜平臺 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
真空蒸發(fā)鍍膜法，設(shè)備比較簡單、容易操作、制成的薄膜純度高、質(zhì)量好、膜厚容易控制，成膜速率快，效果高。在蒸發(fā)溫度以上進行蒸發(fā)試，蒸發(fā)源溫度的微小變化即可引起蒸發(fā)速...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 08:22:24
山東光刻加工工廠 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是促進了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 08:22:24
東莞鍍膜微納加工公司 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
當(dāng)前納米制造技術(shù)在環(huán)境友好方面有望大展身手的一些領(lǐng)域：1、照明：對于傳統(tǒng)的白熾光源來說，LEDs是一種高效能的替代，納米技術(shù)可用來開發(fā)更多新的光源。2、發(fā)動機/...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 08:22:24
深圳電子束蒸發(fā)真空鍍膜 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
磁控濺射由于其內(nèi)部電場的存在，深圳電子束蒸發(fā)真空鍍膜，還可在襯底端引入一個負(fù)偏壓，深圳電子束蒸發(fā)真空鍍膜，使濺射速率和材料粒子的方向性增加。所以磁控濺射常用來沉...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 06:18:07
河南功率器件微納加工實驗室 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
在過去的幾年中，全球各地的研究機構(gòu)和大學(xué)已開始集中研究微觀和納米尺度現(xiàn)象、器件和系統(tǒng)。雖然這一領(lǐng)域的研究產(chǎn)生了微納制造方面的先進知識，但比較顯然，這些知識的產(chǎn)業(yè)...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 04:19:22
深圳硅材料刻蝕工藝 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法腐蝕，深圳硅材料刻蝕工藝。干法刻蝕是把硅片表面曝露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體，深圳硅材料刻蝕工藝，等離子體通過光刻...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 03:18:16
曝光光刻價格 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
一般微電子化學(xué)品具有一定的腐蝕性，對生產(chǎn)設(shè)備有較高的要求，且生產(chǎn)環(huán)境需要進行無塵或微塵處理。制備較優(yōu)微電子化學(xué)品還需要全封閉、自動化的工藝流程，曝光光刻價格，以...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-07 01:18:20
湖北Si材料刻蝕公司 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
刻蝕也可以分成有圖形刻蝕和無圖形刻蝕。有圖形刻蝕采用掩蔽層（有圖形的光刻膠）來定義要刻蝕掉的表面材料區(qū)域，只有硅片上被選擇的這一部分在刻蝕過程中刻掉，湖北Si材...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-06 08:23:13
山西磁控濺射真空鍍膜平臺 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
針對PVD制備薄膜應(yīng)力的解決辦法主要有：1.提高襯底溫度，有利于薄膜和襯底間原子擴散，并加速反應(yīng)過程，有利于形成擴散附著，降低內(nèi)應(yīng)力；2.熱退火處理，薄膜中存在...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-06 07:19:03
四川氮化鎵材料刻蝕價格 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
刻蝕是按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性刻蝕的技術(shù)，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-06 07:19:03
深圳叉指電極真空鍍膜加工 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā)。通過調(diào)節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率，特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料。...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-06 06:19:06
中山GaN材料刻蝕價錢 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
濕刻蝕：較普遍、也是設(shè)備成本較低的刻蝕方法。其影響被刻蝕物之刻蝕速率(etchingrate)的因素有三：刻蝕液濃度、刻蝕液溫度，中山GaN材料刻蝕價錢、及攪拌...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-06 05:19:24
