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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:青島濃縮分離設(shè)備便宜
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詳細(xì)說(shuō)明
鴻方圓反滲透設(shè)備特點(diǎn):
1. 透水量大,脫鹽率高。正常情況下≥98%
2. 對(duì)有機(jī)物,膠體、微粒、細(xì)菌、熱源等有很高的截留去除作用。
3. 能耗小,水利用率高,運(yùn)行費(fèi)用低于其它脫鹽設(shè)備。
4. 分離過(guò)程沒(méi)有相變,具有可靠穩(wěn)定性。
5. 設(shè)備體積小,操作簡(jiǎn)單、容易維護(hù),適應(yīng)性強(qiáng),使用壽命長(zhǎng)。
反滲透設(shè)備應(yīng)用范圍:
1.電子、工業(yè)、醫(yī)藥、食品等工業(yè)中純水、超純水的制備;
2.輕紡、化工行業(yè)工藝用水/化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等凈化與制備用水;
3.食品飲料工業(yè)用水、飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等用水的凈化與制備用水;
4.工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)水溶液進(jìn)行有用物質(zhì)和濃縮與回收;
5.電力行業(yè)鍋爐補(bǔ)給水、 火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動(dòng)力系統(tǒng)等企業(yè)高壓鍋爐補(bǔ)給水的預(yù)脫鹽處理;
6.苦咸水和海水的脫鹽淡化;
7.純凈水裝置作為高純水生產(chǎn)的一級(jí)除鹽設(shè)備。
8.社區(qū),青島濃縮分離設(shè)備便宜、 房產(chǎn)物業(yè)、學(xué)校、工廠、醫(yī)院、茶樓,青島濃縮分離設(shè)備便宜、賓館,青島濃縮分離設(shè)備便宜、美容院、食堂等人數(shù)較多的各類企事業(yè)單位。
反滲透凈水設(shè)備控制系統(tǒng)
大型反滲透凈水設(shè)備廠家系統(tǒng)根據(jù)高壓、低壓、液位、復(fù)位、開(kāi)關(guān)等輸入信號(hào)的變化改變進(jìn)水閥、高壓泵、沖洗閥等執(zhí)行元件相對(duì)應(yīng)的輸出信號(hào),達(dá)到自動(dòng)控制一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的RO系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)壓力保護(hù)、液位控制、開(kāi)機(jī)/滿水/自動(dòng)沖洗等功能。
1.膜元件采用世界品牌,確保膜元件的質(zhì)量,截留性能和膜通量。
2.系統(tǒng)回收率高,可實(shí)現(xiàn)物料的分離、純化及高倍數(shù)濃縮。
3.系統(tǒng)能耗低,生產(chǎn)周期短,設(shè)備運(yùn)行費(fèi)用低,能有效降低生產(chǎn)成本,提高企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益。
4.系統(tǒng)工藝設(shè)計(jì)先進(jìn),集成化程度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積少,操作與維護(hù)簡(jiǎn)便。
5.控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進(jìn)行個(gè)性化設(shè)計(jì),結(jié)合先進(jìn)的控制軟件,現(xiàn)場(chǎng)在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù),避免人工誤操作,多方位確保系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。
EDI技術(shù)EDI(Electrodeionization)技術(shù)是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)相融合,通過(guò)陰、陽(yáng)離子交換膜對(duì)陰、陽(yáng)離子的選擇性透過(guò)作用與離子交換樹(shù)脂對(duì)離子的交換作用,在直流電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)離子的定向遷移,從而完成水的深度除鹽,同時(shí)水電離解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生,因此不需酸堿化學(xué)再生而能連續(xù)制取超純水。EDI工作原理1、RO產(chǎn)水進(jìn)入EDI模塊后被均勻地分配到淡水室中。
2、RO膜未脫除的微量離子被淡水室中的離子交換樹(shù)脂吸附在膜表面。
3、直流電加在EDI模塊的兩端電極,驅(qū)動(dòng)淡水室中的陰陽(yáng)離子向相應(yīng)電極遷移至濃水室,從而制取高純水。
4、在電場(chǎng)作用下,水分子被大量電離成H+和OH-,從而連續(xù)地對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生。
電導(dǎo)率:≤20μS/cm
較好電導(dǎo)率:2-10μS/cm
較大電導(dǎo)率:≤50μS/cm
PH值:6-8
溫度:5℃-38℃
進(jìn)水壓力:0.2-0.6MPa
硬度:小于0.5ppm,(以CaCO3計(jì))
硅:小于0.5ppm,(以SiO2計(jì))
文章來(lái)源地址: http://m.cdcfah.com/cp/89447.html
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