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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn),催化氧化
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uv光催化氧化設(shè)備的光觸媒是光+觸媒(催化劑)的合成詞。光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為表示的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱,是當(dāng)前上治理室內(nèi)環(huán)境污染的材料。光觸媒在特定波長(zhǎng)的光照射下,海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn),會(huì)產(chǎn)生類似植物中葉綠素光合作用的一系列能量轉(zhuǎn)化的過(guò)程,把光能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能而賦予光觸媒表面的氧化能力,海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn),可氧化分解各種有機(jī)化合物和礦化部分的無(wú)機(jī)物,并具有抗的作用。在光的照射下,光觸媒能吸收相當(dāng)于帶隙能量以下的光能,海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn),使其表面發(fā)生激勵(lì)而產(chǎn)生電子(e-)和空(h+)。uv光催化氧化設(shè)備非操縱職員不可對(duì)機(jī)器進(jìn)行維修和檢查。海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn)
uv光催化氧化設(shè)備可以根據(jù)不同參數(shù)選擇不同的流程組合,增加釬焊板式uv光催化氧化設(shè)備的換熱效率。它也沒(méi)有密封膠墊,板片是用銅箔高溫融化焊接而成,板片有著人字形波紋設(shè)計(jì),可以使流體在低流速下也能實(shí)現(xiàn)湍流,傳熱效率高,其體積通常比較小,主要使用在高溫高壓,膠墊不能適應(yīng)的工況。它也有缺點(diǎn),其不能拆開(kāi)清洗,無(wú)法維修,價(jià)格稍高。釬焊板式uv光催化氧化設(shè)備可以根據(jù)不同參數(shù)選擇不同的流程組合,增加釬焊板式uv光催化氧化設(shè)備的換熱效率。其流體在板間的流程可以按具體的使用情況加以組合,一般有單流程與多流程的組合。海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn)uv光催化氧化設(shè)備在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域具有重要作用。
uv光催化氧化設(shè)備傳統(tǒng)的清洗方式如機(jī)械方法(刮、刷)、高壓水、化學(xué)清洗(酸洗)等在對(duì)設(shè)備清洗時(shí)出現(xiàn)很多問(wèn)題:不能去除水垢等沉積物,酸液對(duì)設(shè)備造成腐蝕形成漏洞,殘留的酸對(duì)材質(zhì)產(chǎn)生二次腐蝕或垢下腐蝕,導(dǎo)致?lián)Q設(shè)備,此外,清洗廢液有毒,需要大量資金進(jìn)行廢水處理。使用uv光催化氧化設(shè)備久了之后,有一-些零部件需要我們進(jìn)行更換,墊片也是其中之一,下面給大家介紹一下uv光催化氧化設(shè)備墊片更換順序。1、拆下uv光催化氧化設(shè)備的廢舊墊片,注意拆卸時(shí),不得使墊片槽內(nèi)有劃痕。2、**、**或其它酮類溶劑,去除墊片槽內(nèi)的殘膠。3、用干凈的布或者是棉紗擦凈墊片槽和墊片。4、將粘接劑均勻地涂在墊片槽內(nèi)。5、把干凈的新墊片貼在板上。6、貼好墊片的uv光催化氧化設(shè)備板片要放在平坦、陰涼通風(fēng)的地方自然干固4h后才可安裝使用。
uv光催化氧化設(shè)備當(dāng)活性炭快達(dá)到飽和時(shí)止吸附,然后用熱氣流將有機(jī)物從活性炭上脫附下來(lái)使活性炭再生;脫附下來(lái)的有機(jī)物已被濃縮()并送往催化燃燒室催化燃燒成二氧化碳及水蒸氣排出。當(dāng)有機(jī)廢氣的濃度達(dá)到2000PPm以上時(shí),有機(jī)廢氣在催化床可維持自燃,不用外加熱。燃燒后的尾氣一部分排入到大氣,大部分被送往吸附床,用于活性炭再生。這樣可滿足燃燒和吸附所需的熱能而達(dá)到節(jié)能的目的。再生后的可進(jìn)入下次吸附;在脫附時(shí)凈化操作可用另一個(gè)吸附床進(jìn)行既適合于連續(xù)操作。使用過(guò)程中,要注意uv光催化氧化設(shè)備的調(diào)校,這樣才能始終保持正常運(yùn)行狀態(tài)。
uv光催化氧化設(shè)備流程的確定:兩側(cè)流體的流量大致相當(dāng)時(shí),應(yīng)盡量按等程布置。:當(dāng)兩側(cè)流體的流量相差較大時(shí),則流量小的一側(cè)按多流程布置或采用不等截面通道的板式uv光催化氧化設(shè)備。另外,當(dāng)某一介質(zhì)的溫升或溫降幅度較大時(shí),也可采用多流程。有相變發(fā)生的一側(cè)一般均為單流程,且接口方式為上進(jìn)下出。在多流程uv光催化氧化設(shè)備中,一般對(duì)同流體在各流程中應(yīng)采用相同的流道數(shù)。uv光催化氧化設(shè)備壓降修正系數(shù),單流程時(shí)取1、2~1、4,2~3流程取1、8~2、0,4~5流程取2、6~2、8。流向的選取。單相換熱時(shí),逆流具有較大的平均溫差,一般在板式uv光催化氧化設(shè)備的設(shè)計(jì)中要盡可能把流體布置為逆流。兩側(cè)流體為等流程時(shí),為逆流。uv光催化氧化設(shè)備抗干擾能力強(qiáng)。海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn)
uv光催化氧化設(shè)備溫度穩(wěn)定下來(lái)后,輔助機(jī)組則就停止工作了。海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn)
uv光催化氧化設(shè)備帶電離子可以吸附大于自身重量幾十倍的懸浮顆粒,靠自重沉降下來(lái),從而去除空氣中懸浮膠體達(dá)到凈化空氣的目的催化劑(二氧化鈦)在受到紫外線光照射時(shí)生成化學(xué)活潑性很強(qiáng)的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基,攻擊有機(jī)物,達(dá)到降解有機(jī)物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料,在徹底分解有機(jī)污染物和殺滅菌的同時(shí),自身不分解、不溶出,光催化作用持久,并具有持久的殺菌、降解污染物效果。①高質(zhì)量降解有機(jī)化學(xué)物:能高質(zhì)量去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物。海曙區(qū)uv光氧催化氧化標(biāo)準(zhǔn)
文章來(lái)源地址: http://m.cdcfah.com/cp/3054665.html
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