真空鍍鋁膜的特點(diǎn)有哪些？①和鋁箔相比減少了鋁的用量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本。復(fù)合用鋁箔厚度多為7～9μm，磁控濺射鍍加工，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度為400A（0．04μm）左右，其耗鋁量約為鋁箔的1／200，且生產(chǎn)速度可高達(dá)700m／min。②具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)小孔和裂口，磁控濺射鍍加工，無揉曲龜裂現(xiàn)象，對(duì)氣體、水蒸氣，磁控濺射鍍加工、氣味、光線等的阻隔性提高。③具有比較好的金屬光澤，光反射率可達(dá)97％；且可以通過涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。鍍膜的材料本身是一種無機(jī)物，對(duì)膜本身沒有損害。磁控濺射鍍加工

真空鍍鋁膜熱變形后基材起皺，造成鍍膜不均勻或破裂，達(dá)不到提高阻隔性能的效果，因此，軟化點(diǎn)和熔點(diǎn)較低的塑料薄膜蒸鍍效果較差。實(shí)驗(yàn)表明只有PP、PET、PA等材料才能較適合氧化物鍍膜加工。涂布技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用將涂布技術(shù)與真空鍍鋁技術(shù)結(jié)合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達(dá)到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的要求。經(jīng)過等離子預(yù)處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對(duì)于一些對(duì)鍍鋁層附著牢度要求更高。硫化紙包裝袋真空鍍鋁膜流淌和涂覆不均勻往往會(huì)導(dǎo)致鍍鋁產(chǎn)品報(bào)廢。

真空鍍鋁膜一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。（1）直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬慑冧X薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進(jìn)行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜。

真空鍍鋁膜是一個(gè)集工作環(huán)境、加工設(shè)備、人員技術(shù)、素材靶材和工藝控制于一體的綜合制造過程。鍍鋁性能取決于塑件和鍍膜層的質(zhì)量，被人戲稱為“富人的游戲”，說明鍍膜質(zhì)量要求相當(dāng)高。鍍膜質(zhì)量的關(guān)鍵是底漆層質(zhì)量。雖有無底涂鍍膜，但其模具質(zhì)量要求和成本高，存在鍍鋁反射亮度不足和塑件缺陷等問題，易導(dǎo)致鍍鋁產(chǎn)品報(bào)廢率居高不下。一般而言，無底涂的報(bào)廢率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至?xí)?。為解決這一困惑，國內(nèi)有廠家經(jīng)過10多年的努力，采用了爐內(nèi)噴涂底漆并固化使鍍件生成高亮的表面。真空鍍鋁膜的整體操作時(shí)有嚴(yán)格的規(guī)范的。

真空鍍鋁膜具有比較好的金屬光澤，光反射率可達(dá)97%；且可以通過涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。真空鍍鋁膜可采用屏蔽或洗脫進(jìn)行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到包裝的內(nèi)容物。真空鍍鋁膜鍍鋁層導(dǎo)電性能好，能去除靜電效應(yīng)，尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時(shí)，不會(huì)污染封口部分，保證了包裝的密封性能。對(duì)真空鍍鋁要求基材的耐熱性能好和揮發(fā)物質(zhì)含量低。一方面鍍鋁過程中，基材都要受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物冷凝熱的作用，基材受熱升溫，若耐熱性差，就會(huì)有熱變形，使鍍膜產(chǎn)生皺紋或收縮；真空鍍鋁膜可用于膜的蒸鍍，但膜的質(zhì)量有所要求。銀色無紡布

真空鍍鋁膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標(biāo)標(biāo)簽材料等。磁控濺射鍍加工

等離子預(yù)處理工藝在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用，等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成，其中電子和離子的電荷總數(shù)基本相等，故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前，通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面，一方面，可以打開材料的長分子鏈，出現(xiàn)高能基團(tuán)；另一方面，經(jīng)打擊使薄膜表面出現(xiàn)細(xì)小的凹陷，同時(shí)還可使表面雜質(zhì)離解、重解。電離時(shí)放出的臭氧有強(qiáng)氧化性，附著的雜質(zhì)被氧化而除去，使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高，達(dá)到提高鍍鋁層附著牢度的目的。磁控濺射鍍加工

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