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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:湖北晶原掩膜板哪家好
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蘇州創(chuàng)闊金屬制品有限公司,分析不銹鋼取樣錐微孔類零件的加工工藝,攻克不銹鋼微孔加工難關(guān),助力**試驗(yàn)室檢測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速,經(jīng)過(guò)不懈努力加工同樣或類似微孔的零件,1,湖北晶原掩膜板哪家好. 圖樣工藝分析 零件材料為進(jìn)口的SUS316L,該零件的主要加工難點(diǎn)有: (1)316L不銹鋼材質(zhì),導(dǎo)熱系數(shù)低,加工硬化嚴(yán)重,特別是錐孔底部的薄弱處。(2)定制的64°內(nèi)錐孔成形刀尖部磨損嚴(yán)重,刀尖斷裂的風(fēng)險(xiǎn)很高,錐孔底部尺寸難加工到位。 (3)φ 0.35mm的鉆頭(粗加工)及φ 0.4mm的鉆頭(擴(kuò)孔)剛度差,截面積小,散熱慢,鉆頭磨損嚴(yán)重,斷裂的風(fēng)險(xiǎn)極高。 (4)內(nèi)外圓同軸度不高、錐底部結(jié)構(gòu)薄弱,存在變形、孔徑超差、圓度超差、破邊及毛刺不易去除等問(wèn)題,這些問(wèn)題都會(huì)影響到零件裝機(jī)后的測(cè)試靈敏度,關(guān)系到整機(jī)性能。 (5)φ 0,湖北晶原掩膜板哪家好.4mm的圓柱長(zhǎng)度只有0.02mm,沒(méi)法實(shí)現(xiàn),經(jīng)與研發(fā)部門討論后改為0.1(+0,湖北晶原掩膜板哪家好.1,+0.05)mm,但加工難度仍然很高。我司**終能完善此類的加工要求,根據(jù)不同的要求來(lái)應(yīng)對(duì)。
創(chuàng)闊金屬制品制作的超薄大墊片,壓縮泵出口閥片,F(xiàn)PC發(fā)熱片,掩膜版光成像工藝,氧化鐵掩膜,,機(jī)械掩膜版,led掩模版,場(chǎng)效應(yīng)晶體管掩膜版,掩膜微電解加工,透明電極掩膜,金屬玻掩膜板,電容掩模板,硅基掩膜版,蒸發(fā)電極掩膜板,鍍電極掩膜版,硅片掩膜板等等,透明電極掩膜,光纖光柵掩膜板,晶原掩膜,場(chǎng)效應(yīng)晶體管掩膜版,掩膜微電解加工,光學(xué)膜系設(shè)計(jì)模板,蘇州創(chuàng)闊金屬制品有限公司為此類產(chǎn)品研發(fā)加工,氧化鐵掩膜主要用途主要應(yīng)用于光學(xué),光刻產(chǎn)品的遮擋,防止光的衍射。光學(xué)膜系設(shè)計(jì)模板主要用途主要應(yīng)用于光學(xué),光刻產(chǎn)品的遮擋,防止光的衍射。產(chǎn)品名稱場(chǎng)效應(yīng)晶體管掩膜版主要用途通過(guò)光刻制版工藝可以獲得所需掩膜版。晶原掩膜產(chǎn)品簡(jiǎn)介:一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形,實(shí)現(xiàn)對(duì)光線的遮擋或透過(guò)功能,是微電子光刻工藝中的一個(gè)工具或者板材,。金屬玻璃掩膜板主要用途金屬玻璃掩模mclal on glass mask以不透光金屬薄膜選擇地覆蓋在坂璃基片上構(gòu)成的光學(xué)掩模版客戶對(duì)本產(chǎn)品的蝕刻加工要求公差要求高,質(zhì)量好,可批量化生產(chǎn),材質(zhì)穩(wěn)定產(chǎn)品使用材質(zhì)SUS304不銹鋼材厚度0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm
場(chǎng)效應(yīng)晶體管掩膜版,掩膜微電解加工,透明電極掩膜,光纖光柵掩膜板,晶原掩膜,掩膜版光成像工藝,氧化鐵掩膜,光學(xué)膜系設(shè)計(jì)模板,,機(jī)械掩膜版,led掩模版,場(chǎng)效應(yīng)晶體管掩膜版,掩膜微電解加工,透明電極掩膜,襯底基片+制作掩模板,金屬玻璃掩膜板,電容掩模板,硅基掩膜版,蒸發(fā)電極掩膜板,鍍電極掩膜版,硅片掩膜板等等,蘇州創(chuàng)闊金屬制品有限公司為此類產(chǎn)品研發(fā)加工,氧化鐵掩膜主要用途主要應(yīng)用于光學(xué),光刻產(chǎn)品的遮擋,防止光的衍射。光學(xué)膜系設(shè)計(jì)模板主要用途主要應(yīng)用于光學(xué),光刻產(chǎn)品的遮擋,防止光的衍射。產(chǎn)品名稱場(chǎng)效應(yīng)晶體管掩膜版主要用途通過(guò)光刻制版工藝可以獲得所需掩膜版。晶原掩膜產(chǎn)品簡(jiǎn)介:一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形,實(shí)現(xiàn)對(duì)光線的遮擋或透過(guò)功能,是微電子光刻工藝中的一個(gè)工具或者板材,。金屬玻璃掩膜板主要用途金屬玻璃掩模mclal on glass mask以不透光金屬薄膜選擇地覆蓋在坂璃基片上構(gòu)成的光學(xué)掩模版客戶對(duì)本產(chǎn)品的蝕刻加工要求公差要求高,質(zhì)量好,可批量化生產(chǎn),材質(zhì)穩(wěn)定產(chǎn)品使用材質(zhì)SUS304不銹鋼材質(zhì)材料的厚度mm0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm
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