真空鍍鋁膜反應磁控濺射沉積過程中基板升溫較小，而且制膜過程中通常也不要求對基板進行高溫加熱，因此對基板材料的限制較少。反應磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實現單機年產上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產。磁控濺射鍍膜原理：磁控濺射系統(tǒng)在陰極靶材的背后放置100～1000Gauss強力磁鐵,真空室充入1～10Pa壓力的惰性氣體(Ar),作為氣體放電的載體。在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子，北京磁控濺射無紡布鍍銀膜系列，北京磁控濺射無紡布鍍銀膜系列, 電子在加速飛向基片的過程中,受到垂直于電場的磁場影響。真空鍍鋁膜其封口性能好，北京磁控濺射無紡布鍍銀膜系列，尤其包裝粉末狀產品時，不會污染封口部分。北京磁控濺射無紡布鍍銀膜系列

真空鍍鋁膜熱變形后基材起皺，造成鍍膜不均勻或破裂，達不到提高阻隔性能的效果，因此，軟化點和熔點較低的塑料薄膜蒸鍍效果較差。實驗表明只有PP、PET、PA等材料才能較適合氧化物鍍膜加工。涂布技術在真空鍍鋁膜中的應用將涂布技術與真空鍍鋁技術結合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應用領域的要求。經過等離子預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高。深圳磁控濺射鍍銀膜生產廠家真空鍍鋁膜節(jié)省了能源和材料，降低了成本。

鍍膜磁控濺射，磁控濺射又稱為高速低溫濺射。在磁場約束及增強下的等離子體中的工作氣體離子 (如 Ar+)，在靶陰極電場的加速下，轟擊陰極材料，使材料表面的原子或分子飛離靶面，穿越等離子體區(qū)以后在基片表面淀積、遷移極終形成薄膜。與二極濺射相比較，磁控濺射的沉積速率高，基片升溫低，膜層質量好，可重復性好，便于產業(yè)化生產。它的發(fā)展引起了薄膜制備工藝的巨大變革。磁控濺射源在結構上必須具備兩個基本條件：(1)建立與電場垂直的磁場；(2)磁場方向與陰極表面平行，并組成環(huán)形磁場。

真空鍍鋁膜開通冷卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)，從而在移動的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。真空蒸鍍原理，將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度。鍍膜可以讓入射光線損失達30%至40%。

真空鍍鋁膜已有電子束蒸發(fā)源蒸鍍法、高頻感應蒸發(fā)源蒸鍍法、激光束蒸發(fā)源蒸鍍法涌現，其中電子束蒸發(fā)源蒸鍍法將是真空鍍鋁技術中重要的加熱方式和發(fā)展方向。總之，真空鍍鋁膜是燈具塑件表面加工必不可少的加工工藝，將在燈具制造領域中得到更加廣闊的發(fā)展空間。光密度法，以光線透過真空鍍鋁膜的密度來衡量。用光密度計量鍍鋁層厚度的優(yōu)點是方便、準確，測量結果不易受表面氧化層的影響。光密度值與入射光波長有關。采用表面方塊電阻測量。此法簡單實用，一般鋁層厚度對應的表面電阻一般在1~2。取樣或寬1cm長，10cm的電阻值在1~20之間。鍍膜剛下卷時，鋁層表面氧化少，測量更加準確。鍍膜目的是希望減少光的反射，增加透光率。鍍膜生產廠商

真空鍍鋁膜在一定濕度的常溫環(huán)境下基材吸水率較高(0.15%~0.19%)。北京磁控濺射無紡布鍍銀膜系列

真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業(yè)應用,工業(yè)化大規(guī)模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應用.真空鍍膜是指在真空環(huán)境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理的氣相沉積工藝.因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化.廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜.在所有被鍍材料中,以塑料更為常見。北京磁控濺射無紡布鍍銀膜系列

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